Как применять алициклическую эпоксидную смолу в покрытии, отверждаемом ультрафиолетом?
Технология УФ-отверждения в целом делится на свободнорадикальные и УФ-катионные системы. Широко используются УФ-катионные покрытия с отличными технологическими свойствами в металлических банках, стальном прокате и гибкой упаковке, основной рынок в настоящее время также находится в Европе и США.
Катионные УФ-материалы и свободнорадикальные УФ-материалы сильно различаются, но общий состав схож. В катионных системах преобладают эпоксидные материалы, но обычная эпоксидная смола типа бисфенола А реагирует медленно, с большим количеством применений материалов типа алициклической эпоксидной/оксетановой смолы; Свободнорадикальные системы в настоящее время очень зрелы с коммерческой точки зрения, а акрилатные материалы, модифицированные эпоксидными/полиэфирными/полиуретанами, обеспечивают более широкий выбор решений.
Катионная УФ-система может использовать меньше видов сырья по сравнению со свободнорадикальной системой, а полимер в основном представляет собой алициклическую эпоксидную смолу с низкой вязкостью. В качестве примера возьмем алициклические эпоксидные смолы.
TTA21 различной степени чистоты является наиболее доминирующим продуктом в индустрии УФ-покрытий. Поскольку применение катионных УФ-покрытий продолжает значительно расти, ожидается, что количество алициклических эпоксидных смол, представленных ТТА21, будет увеличиваться.
В конкретных продуктах применения чернил/покрытий, помимо того, что обе системы нуждаются в УФ-свете для обеспечения энергии отверждения, две системы демонстрируют существенные различия в производительности и реакционных характеристиках.
1. Эффект блокировки кислорода
УФ-катионная система не блокирует кислород, но больше боится воды, влага повлияет на эффективность отверждения катионной системы; Свободные радикалы УФ-излучения действуют наоборот и больше подвержены блокированию кислорода.
2. Адгезия подложки
Обычно в более трудно прикрепляемых к поверхности подложках, таких как стекло/металл/пластик высокой плотности, катион УФ-излучения, чем свободное основание УФ-излучения, обладает лучшими адгезионными характеристиками.
3. Скорость усадки объема
Скорость усадки при отверждении состава системы УФ-свободных радикалов обычно превышает 10%, в то время как катионная УФ-система может контролировать скорость усадки на 1-3%, что является хорошим решением для решения проблемы объемной усадки.
4. Характеристики темного отверждения
Катионная УФ-система может продолжать реагировать на внутренний слой после прекращения облучения источником света, чтобы завершить материал после отверждения, это характеристики темного отверждения, очень подходящие для нанесения толстых покрытий, нагрев катиона после скорости отверждения значительно полезен; Свободные радикалы УФ-излучения представляют собой систему реакций «стоп-и-гоу».
5. Контактная безопасность
Степень реакции катионной системы УФ-излучения близка к 100%, безопасность может быть сертифицирована тестированием REACH / FDA, может использоваться в упаковке пищевых продуктов и других смежных областях.
6. Скорость светоотверждения
В целом, скорость отверждения системы УФ-свободных радикалов выше, чем у катионной системы, на которую влияют продукты, блокирующие кислород. Катионная поверхностная сушка будет быстрее, но фактическая скорость сушки не такая быстрая, как у свободных радикалов, вы можете ускорить реакцию путем нагревания и в конечном итоге может достичь очень хорошей степени завершения.
Примечания к рецептуре
УФ-катионная система может быть смешана с УФ-системой свободных радикалов в любой пропорции, называемой УФ-гибридной системой, может улучшить относительную скорость отверждения УФ-катионов и усадку свободных радикалов УФ-излучения, на которую влияет кислородный барьер и другие недостатки, та же толщина пленки системы. Разница в энергии отверждения невелика.
Катионная система УФ-излучения должна полагаться на инициатор, генерируемый сильной кислотой Льюиса, для создания активной точки реакции раскрытия кольца, формула обычно влияет на активность инициатора материала, в основном азоорганические пигменты (могут быть модифицированы для защиты) , и свободные радикалы, смешанные с ТПО/819/907 и другими структурами, содержащими P, S и другие элементы инициатора, и подобными 115 многоуровневому амину.
Влажность оказывает большее влияние на отверждение катионной УФ-системы, поэтому целесообразно контролировать влажность окружающей среды в пределах 50%; при нагревании скорость реакции ускорится.
UV Photoinitiator Same series products
| Product name | CAS NO. | Chemical name |
| Photoinitiator TPO | 75980-60-8 | Diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide |
| Photoinitiator TPO-L | 84434-11-7 | Ethyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphinate |
| Photoinitiator 819/920 | 162881-26-7 | Phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide |
| Photoinitiator 819 DW | 162881-26-7 | Irgacure 819 DW |
| Photoinitiator ITX | 5495-84-1 | 2-Isopropylthioxanthone |
| Photoinitiator DETX | 82799-44-8 | 2,4-Diethyl-9H-thioxanthen-9-one |
| Photoinitiator BDK/651 | 24650-42-8 | 2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenone |
| Photoinitiator 907 | 71868-10-5 | 2-Methyl-4′-(methylthio)-2-morpholinopropiophenone |
| Photoinitiator 184 | 947-19-3 | 1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone |
| Photoinitiator MBF | 15206-55-0 | Methyl benzoylformate |
| Photoinitiator 150 | 163702-01-0 | Benzene, (1-methylethenyl)-, homopolymer,ar-(2-hydroxy-2-methyl-1-oxopropyl) derivs |
| Photoinitiator 160 | 71868-15-0 | Difunctional alpha hydroxy ketone |
| Photoinitiator 1173 | 7473-98-5 | 2-Hydroxy-2-methylpropiophenone |
| Photoinitiator EMK | 90-93-7 | 4,4′-Bis(diethylamino) benzophenone |
| Photoinitiator PBZ | 2128-93-0 | 4-Benzoylbiphenyl |
| Photoinitiator OMBB/MBB | 606-28-0 | Methyl 2-benzoylbenzoate |
| Photoinitiator 784/FMT | 125051-32-3 | BIS(2,6-DIFLUORO-3-(1-HYDROPYRROL-1-YL)PHENYL)TITANOCENE |
| Photoinitiator BP | 119-61-9 | Benzophenone |
| Photoinitiator 754 | 211510-16-6 | Benzeneacetic acid, alpha-oxo-, Oxydi-2,1-ethanediyl ester |
| Photoinitiator CBP | 134-85-0 | 4-Chlorobenzophenone |
| Photoinitiator MBP | 134-84-9 | 4-Methylbenzophenone |
| Photoinitiator EHA | 21245-02-3 | 2-Ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate |
| Photoinitiator DMB | 2208-05-1 | 2-(Dimethylamino)ethyl benzoate |
| Photoinitiator EDB | 10287-53-3 | Ethyl 4-dimethylaminobenzoate |
| Photoinitiator 250 | 344562-80-7 | (4-Methylphenyl) [4-(2-methylpropyl)phenyl] iodoniumhexafluorophosphate |
| Photoinitiator 369 | 119313-12-1 | 2-Benzyl-2-(dimethylamino)-4′-morpholinobutyrophenone |
| Photoinitiator 379 | 119344-86-4 | 1-Butanone, 2-(dimethylamino)-2-(4-methylphenyl)methyl-1-4-(4-morpholinyl)phenyl- |
| Photoinitiator 938 | 61358-25-6 | Bis(4-tert-butylphenyl)iodonium hexafluorophosphate |
| Photoinitiator 6992 MX | 75482-18-7 & 74227-35-3 | Cationic Photoinitiator UVI-6992 |
| Photoinitiator 6992 | 68156-13-8 | Diphenyl(4-phenylthio)phenylsufonium hexafluorophosphate |
| Photoinitiator 6993-S | 71449-78-0 & 89452-37-9 | Mixed type triarylsulfonium hexafluoroantimonate salts |
| Photoinitiator 6993-P | 71449-78-0 | 4-Thiophenyl phenyl diphenyl sulfonium hexafluoroantimonate |
| Photoinitiator 1206 | Photoinitiator APi-1206 |
Свяжитесь с нами прямо сейчас!
Если вам нужен COA, MSDS или TDS, пожалуйста, заполните контактную информацию в форме ниже, мы обычно связываемся с вами в течение 24 часов. Вы также можете написать мне info@longchangchemical.com в рабочее время (с 8:30 утра до 6:00 вечера UTC+8 пн.~сб.) или воспользоваться чатом на сайте, чтобы получить быстрый ответ.